如何做到单晶硅清洗用超纯水设备“呵护备至”？

　　单晶硅是指硅的单晶体，具有基本完整的点阵结构。不同的方向具有不同的性质，是一种良好的半导材料。纯度要求达到99.99% ，甚至达到99.99%以上。用于制造半导体器件、太阳能电池等。

　　太阳能电池行业要应用单晶硅，首先就要对其加工清洗，而超纯水设备就是一种出水电阻率非常高，不含任何杂质，不导电的设备，符合单晶硅的清洗需求。

　　莱特莱德单晶硅清洗用超纯水设备在设计上采用双级反渗透与EDI及抛光混床相结合的制水工艺，具有水利用率高，运行可靠，经济合理等特点。但是单晶硅清洗用超纯水设备在长时间工作后，如果不定期进行维护，就很容易被污染，因此单晶硅清洗用超纯水设备要这样“呵护”，才能保证设备出水水质符合要求。

　　1、将清洗液进行混合。

　　2、用清洗泵低流量将清洗液以低流速、低压力打至反渗透系统，并排走原水，防止清洗液稀释。

　　3、保持设备温度稳定，用清洗泵将清洗液在系统中循环。

　　4、清洗泵进行浸泡一小时即可，污染较严重的反渗透膜可进行更长时间的浸泡清洗。

　　5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分钟，使反渗透膜上被洗掉的污染物随高流速水冲走。

　　6、用清水将清洗液冲去。此外，用酸清洗时应测pH值，当pH值上升0.5以上时应增加酸量。

　　莱特莱德超纯水设备可以连续稳定的制备品质优良的超纯水，水质稳定在ppt级别，尤其是硼离子可以≤5ppt，能够更好助力集成电路企业的发展，形成更强大的企业竞争力。