半导体生产中应用的超纯水设备都由哪些工艺组成？

　　半导体是作为一种电子性质介于导体和绝缘体之间的材料，具有重要的电子学和光电学性质，广泛用于电子、光电和信息技术领域。其在制造过程中需要清洗的超纯水，几乎每道工序都需要超纯水作为清洗用水，为了更好地为半导体生产清洗用水供给，超纯水设备也在增加生产力度。

　　目前，半导体生产中应用的超纯水设备摒弃了传统工艺，核心是采用的膜法技术，应用反渗透工艺与EDI和混床工艺来生产超纯水，不仅产水量增加，出水电导率可达18.2mΩ， 满足了芯片行业用水需求。

　　该超纯水设备采用的核心工艺组成介绍如下：

　　1、反渗透工艺：利用反向渗透原理，有效除去水中溶解盐类、有机物、胶体、大分子物质等，降低水质的离子含量。

　　2、EDI模块：无需酸碱再生，运行成本低，EDI系统的自动化程度很高，可以连续工作，出水水质好且稳定，出水电阻率≥15MΩ·CM。

　　3、抛光混床工艺：专门用于高纯度的水处理系统中的终端精制器，能够将水中的离子含量降到PPB级别，出水电阻率可达18.2MΩ·CM。

　　以上，介绍的工艺就是目前半导体生产应用的超纯水设备核心工艺组成。该超纯水设备在保证出水达标的同时，还考量了日常使用方便性、耗材更换方便性、扩建前瞻预判等细节，为半导体生产提供了高品质的超纯水。

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　　编辑：柒柒   技术：米