超纯水设备为芯片“洗澡”，提高芯片良品率

　　芯片的制造条件十分苛刻，芯片制造有上千道工序，在上千道工序的累计下，芯片的总良品率一定会惨不忍睹。所以，在芯片制造的过程中，有30%的时间都在做一件事情，就是“洗澡”，专业名字叫湿法清洗。

　　为芯片“洗澡”要用的是超纯水，简单的说就是纯到连鱼都活不了的纯水。把自来水变成超纯水，会损失30-40%左右的水，水的电阻率会达到18.2MΩ.cm，超纯水才能在芯片各个生产线上给芯片“洗澡”。

　　超纯水是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、EDI处理以及后级抛光处理四大步骤，电阻率方可达到18.2MΩ.cm。

　　超纯水的生产步骤如下：

　　1、预处理

　　包括砂滤、多介质过滤、软化、加氯、调节pH、活性碳过滤等。过滤可除去1～20微米大小的颗粒，软化和调节pH可防止反渗透膜结垢，加氯是为了杀菌。

　　2、脱盐：包括反渗透、EDI系统。

　　反渗透是渗透现象的逆过程,在浓溶液上加压力,使溶剂从浓溶液一侧通过半透膜向稀溶液一侧反向渗透，脱盐可达98%，并能除去99%的细菌颗粒和溶解在水中的有机物。

　　EDI的作用就是通过除去电解质(包括弱电解质)的过程，将水的电阻率从0.05～1.0MΩ·cm提高到5～16MΩ·cm。

　　3、精处理

　　树脂上可交换的阴离子如OH离子被置换到水中,并与水中的H离子结合成水，即超纯水精处理，包括紫外线杀菌、终端膜过滤和终端超滤。紫外线杀菌是因生物体的核酸吸收紫外线光的能量而改变核酸自身结构,破坏核酸功能而使细菌死亡。各种膜过滤能除掉直径大于0.2微米的颗粒，但对于清除有机物则不如反渗透和超滤有效。

　　莱特莱德超纯水设备结构紧凑、管理分布合理、简单，是一台独立的一体化智能系统。在芯片生产中，生产出的超纯水可保证芯片良品率，是优质的选择。

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　　编辑：虞美人 技术：米