超纯水，定义为电阻率超过18 MΩ*cm，几乎不含有任何杂质的水，是半导体制造中最为严苛的用水标准。...

超纯水设备通过精密的反渗透、EDI以及抛光混床技术，实现了对水中离子、有机物、颗粒物等杂质的深度去除，确保了供给芯片制造的超纯水具有极高的纯度。...

超纯水设备生产超纯水具有出水连续稳定、能耗低、无污染、自动化强等优势。它采用了“反渗透+EDI+抛光混床”的技术设计，严格执行超纯水生产标准，出水质量稳定，能达到18MΩ*cm(25℃)。...

EDI超纯水设备采用了“双级反渗透+EDI”的结合工艺，出水水质电阻率可达16MΩ*cm(25℃)。它结合了膜分离技术，通过利用反渗透膜对离子类物质的强大过滤能力，可以充分去除超纯水中含有的金属离子、矿物质、有机物、细菌和微生物等杂质。...

工业超纯水设备可以生产出质量可靠的超纯水。这是因为该设备采用了“双级反渗透+EDI”的技术设计，出水水质高。...

为了保证生产芯片的纯净度，清洗水也需要使用高纯度的超纯水。制备超纯水必须严格按照国家标准来生产，这是为了保证在芯片生产过程中，不会产生多余的杂质影响芯片品质。...